[학부] SK하이닉스와 함께하는 서울대학교 학부생 반도체 공정 실습 교육 안내
SK하이닉스와 함께하는 
서울대학교 학부생 반도체 공정 실습 교육 안내
서울대학교 학부생을 대상으로 반도체 소자 및 공정에 대한 이해를 증진시키기 위한 실습교육을 진행합니다. 반도체 공정을 이용한 기본적인 MOS capacitor 제작 및 C-V 특성 측정 등 실무 중심의 교육이 진행되오니 관심 있는 학생들의 많은 참여 바랍니다.
- 교육 개요
- 지원 자격: 서울대학교 학부생
- 선발 인원: 총 40명 (각 차수별 20명 선발)
- 교육 참가비: 무료 (교육 이수 완료시 수료증 발급) ⚠ 주의사항: 불참시 향후 관련 교육 참여가 불가능합니다.
- 교육 장소: 서울대학교 반도체공동연구소 인재양성관 1-2 교육실, 3-4 교육실, 클린룸
- 교육 일정 및 선발 프로세스
- 교육 기간 (택 1, 임의 배정)
1, 2차 교육 내용은 동일하며, 하나의 차수만 수강 가능합니다. (차수는 임의 배정됩니다).
- 1차 교육: 2026. 8. 24.(월) ~ 8. 26.(수)
- 2차 교육: 2026. 8. 26.(수) ~ 8. 28.(금)
- 신청 및 발표 일정
- 접수 기간: 2026. 6. 8(월) 오전 10시 ~ 2026. 6. 19.(금) 오후 3시
- 합격자 발표: 2026. 6. 30. (화) (합격자 및 예비 합격자 대상 개별 통보)
- 상세 교육 프로그램 (3일 과정)
- 교육 내용: 반도체 공정을 이용하여 기본적인 MOS capacitor를 제작하고, C-V 특성을 측정하여 반도체 소자/공정에 대한 기본적인 이해 증진
| 1일차 | 2일차 | 3일차 | ||||
| 시간 | A조 | B조 | A조 | B조 | A조 | B조 |
| 9:00 | 안전교육 | 산화확산공정 박막두께 측정 | 금속공정 | 사진공정 | 식각공정 | |
| 10:00 | 반도체 산업 동향 및 SK하이닉스의 히스토리 | 웨이퍼준비 검사/세정 | 식각공정 | |||
| 11:00 | 이온주입 | C-V측정교육 | ||||
| 12:00 | 점심 | 점심 | ||||
| 13:00 | 웨이퍼준비 검사/세정 | 점심 | 금속공정 | 점심 | 점심 | 점심 |
| 14:00 | 산화확산공정 박막두께 측정 | 사진공정 | C-V측정교육 | C-V측정교육 | ||
| 15:00 | 반도체 산업 동향 및 SK하이닉스의 히스토리 | |||||
| 16:00 | 이온주입 | 사진공정 | ||||
| 17:00 | 금속공정 | 식각공정 | 시험 및 수료식 | |||
- 문의 및 담당교수
- 문의처: 우현정 직원 (woohj@snu.ac.kr)
- 담당 교수: 전기정보공학부 김재하, 최우영 교수
